Описание

Данная установка представляет собой настольную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.

Благодаря наличию в данной системе массового расходомера рабочих газов, можно производить смену газовых баллонов с различным давлением, а PLC-контроллер обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность рабочего процесса.  

Отличительные особенности:

• Дверка камеры открывается в обе стороны
• Автоматическая очистка вакуумной линии после выключения системы
• Сверхточное совмещение по верхней стороне
• Обновление программного обеспечения посредствам аналогового модема
• Возможность использования вращающегося барабана для обработки маленьких деталей
• RS-232 интерфейс

Области применения:

• Изготовление МЭМС 
• Удаление полимеров (например, после Bosch-процессов)
• Удаление жертвенных органических слоёв
• Обработка биоактивных компаундов

Опции:

• Вакуумная помпа
• Озоновая ловушка
• Вторая газовая линия
• Вращающийся барабан для мелких компонентов
• Ящик с полками
• Дистанционное управление
• И другие

Технические характеристики

• Размеры рабочей камеры: 170х170х200 мм
• Частота: 2,45 ГГц макс. 300 Вт, 
• Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном
• Эл. питание: Однофазное 230В, 50-60 Гц, 16 А
• Габаритные размеры: 640х710х710 мм
• Вес: 100 кг